Raith EBL光刻機(jī)隔振方案
Raith EBL光刻機(jī)隔振方案
ARISMD主動隔振系統(tǒng)/主動式減震臺/主動防震臺，模塊化主動隔振系統(tǒng)，可采用填充式安裝方式，適用于大型光刻機(jī)、球差透射電子顯微鏡、EBL電子束曝光機(jī).......
背景：微電子微納米加工應(yīng)用
使用單位：Infinroe
設(shè)備型號：Raith EBPG5200 Plus
隔振方案：ARISMD1000 Pro主動隔振系統(tǒng)/主動式減震臺/主動防震臺
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ARISMD Pro主動隔振系統(tǒng)/主動減震系統(tǒng)/主動防震系統(tǒng)
緊湊型模塊化主動隔振系統(tǒng)，能夠抵消影響超高精密設(shè)備或工具的振動，多個獨立的隔振器可承受高達(dá)4000Kg的大型設(shè)備負(fù)載，安裝簡易靈活，無需抬高及重新校準(zhǔn)。
主要優(yōu)勢：
?1. 6自由度隔振
?2. 0.5Hz開始隔振有效增益
?3. 可變阻尼
?4. 內(nèi)置人工智能功能
?5. 主動隔振頻率范圍可調(diào)整
?6. 遠(yuǎn)程控制
?7. 內(nèi)置實時診斷工具（頻譜分析儀、示波器）
?8. 震動模式（可選）
應(yīng)用領(lǐng)域：
?1. 電子顯微鏡（SEM、TEM、FIB、EBL、DualBeam）
?2. 半導(dǎo)體測試設(shè)備（光刻機(jī)、晶圓測試儀、電子束曝光機(jī)、CD_SEM）
?3. 掃描隧道顯微鏡/STM、掃描探針顯微鏡SPM、大型原子力顯微鏡/AFM
?4. X-Ray、CT、MPI
?......
規(guī)格參數(shù)：
| Model/型號 | ARISMD300 Pro | ARISMD500 Pro |
| Dimensions/規(guī)格（mm） | 230x230x75 230x270x75 | 230x230x75 230x270x75 |
| Load Capacity（Kg） | 100-300 per Isolator (Module) Number of Modules unlimited | 200-500 per Isolator (Module) Number of Modules unlimited |
| Actuaotor Force/制動器力 | Vertical = 150N ?; Horizontal = 75N | |
| Active Isolation Range/主動隔振頻率 | 0.5-100Hz | |
| Architecture/結(jié)構(gòu) | MVIS - Multi-layer Vibration Isolation Structure/MVIS-多層隔振結(jié)構(gòu) | |
| Degrees of Freedom/自由度 | 6 degrees | |
| Vibration Isolation Performance/性能 | ~8db gain on 1Hz? ~20db gain on 2Hz | |
| Setting Time/響應(yīng)時間 | ≤0.1 sec | |
| Real-Time Diagnostic Tools 實時診斷工具 | Built-in Real-Time 2 channels Oscilloscope, Real Time 2 channel Spectrum Analyzer | |
| Real-Time performance adjustment 實時性能調(diào)整工具 | Adaptive Control in ALL 6 degrees of freedom in real-time. Remote Access | |
| Input Voltage/電壓 | AC 80-260V/50-60Hz | |
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